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硼靶制備技術

技術原理

含核靶成分的物質通過物理氣相沉積或者化學氣相沉積方法在襯底上成膜，再經過濕法刻蝕實現膜的剝離，最后撈取在一個金屬框架（靶框）上，獲得自支撐核靶。

技術意義

 

                                     氫硼反應原理圖                                                      自支撐硼膜                                                              硼膜形貌

含有被轟擊原子核的實體稱為核靶，簡稱靶。自支撐靶是單純由核靶材料組成的一層薄膜靶，用一個金屬框架（靶框）支撐著，其優(yōu)點是沒有襯底材料的干擾。在低能核物理、激光核物理、原子核化學試驗中都需要核靶，核靶制備是這些實驗成功與否的關鍵問題之一，尤其是自支撐靶。 

新奧科技核靶制備能力

新奧科技具有磁控濺射物理氣相沉積和化學氣相沉積平臺制備核靶，能夠制備納米級到微米級自支撐硼核靶，包括純硼靶、氫硼靶等，已制備了微米級自支撐硼核靶用于氫硼聚變物理驗證實驗。

技術優(yōu)勢

新奧科技的氣相沉積方法制備核靶，加熱溫度低、制備周期短、核靶質量高、適用范圍廣。